AH系列熱裂解源是一款性價比較高的原子氫源，可通過高溫將高純氫氣裂解為活性高的氫原子，通常用于襯底清洗、去除氧化物、促進原子遷移及氮化鎵生長速率調整等。氣體傳輸導管中的加熱絲為耐高溫的鎢絲材質，可加熱至1800-2200℃。AH系列熱裂解源額外配備水冷法蘭，可顯著降低熱輻射，減少材料高溫放氣。特殊設計的擴散板結構可控制原子氫分布狀態，提高束流均勻性。此外，原子氫熱裂解源僅可產生氫原子及氫分子，可有效避免襯底損傷。
| ● 低成本，性能高；低溫原位襯底清洗 | ● 改善材料二維生長；提供原子級平整表面 |
| 熱裂解源型號 | 所有研發及生產型MBE系統 | |
| 適用氣體源 | H2 | |
| 最小安裝法蘭尺寸 | CF35 | |
| 總長度 (mm) | 494 | |
| 真空內長度 (mm) | 343 | |
| 真空內外徑 (mm) | 151 | |
| 加熱方式 | 輻射加熱，自支撐鎢絲 | |
| 進氣口 | 1/4 VCR | |
| 常用工作溫度 | 1800-2200℃ | |
| 最高除氣溫度 | 2500℃ | |
| 冷卻 | 標準水冷法蘭 | |
| 烘烤溫度 | 250℃ | |
| 訂購編碼 | 3100160001 | |
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