RFPS射頻等離子體源，專門為高通量活性中性產物設計。通過線圈式結構，能在真空腔體內激發產生等離子體，激勵氣體種類包括但不限于H2、N2、O2、稀有氣體等，具有更好的穩定性以及更精確的操控性。可為MBE和鈍化處理系統提供高通量原子氫、原子氧、原子氮。特殊的噴口片結構設計，可有效抑制高能粒子對襯底表面損傷，并且能夠優化束流分布。
RFPS配套的全自動射頻電源匹配器，可快速匹配。
| ● 高效穩定的氮化物、氧化物、氫化物生長 | ● 精確的操控性能，簡單易用 | ● 內有原子篩選孔，使離子盡可能少的到達襯底。可以根據需求更換引出端口 |
| 蒸發源型號 | RFPS200-A | RFPS200-B | RFPS200-C | RFPS200-D | |
| 氣體負載 | N2、H2 | O2、H2 | N2、H2 | O2、H2 | |
| 離子產生區材料 | PBN | 石英 | PBN | 石英 | |
| 安裝法蘭尺寸 | CF63 | CF100 | |||
| 總長度 (mm) | 824±2 | 824±2 | |||
| 真空內長度 (mm) | 400±2 | 400±2 | |||
| 真空內外徑 (mm) | 54 | 71 | |||
| 冷卻方式口 | ≥0.5；推薦大于2 | ||||
| 進氣接口 | 1/4VCR | ||||
| 射頻匹配器 | 13.56MHz / 500W；1000W可選 | ||||
| 等離子體光譜檢測 | 選配 | ||||
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