射頻等離子體源，通過線圈式結構激發產生等離子體，適用于H2、N2、O2、稀有氣體等，具有更好的穩定性以及更精確的操控性，廣泛應用于氮化物生長、氮原子注入和摻雜、氧化物生長、氧原子的注入和摻雜、氫化物生長以及氫原子表面清洗等。
| ● 高效穩定的氮化物、氧化物、氫化物生長 | ● 精確的操控性能，簡單易用 | ● 可以根據需求更換引出端口 |
| ● 內有原子篩選孔,使離子體盡可能少的到達襯底 | ● 適用于MBE、真空解理鍍膜、氫原子襯底清洗等系統 |
| 類型 | FERMI-RFPS-200 | |
| 真空兼容性 | CF100標準法蘭 | |
| 氣體負載 | N2，H2 | O2,H2 |
| 離子產生區材料 | PBN | 石英 |
| 冷卻方式 | 水冷 | |
| 進氣裝置 | VCR1/4接頭 | |
| 真空工作距離 | 100-200mm | |
| 射頻匹配器 | 13.56MHz/500瓦 | |
| 水冷流速 | >1 L/min | |
| 手動、自動射頻匹配器 | 可選 | |
| 等離子體光譜檢測 | 可選 | |
收到資料后，我們的銷售人員/產品工程師將與您聯系
部分產品可根據您的需求定制
您的資料將全程保密
EN
021-6525 3206
您當前位置：
全國服務熱線
詳詢產品信息
