PLD 300 是費勉儀器專為大學和科研院所開發的脈沖激光沉積設備，用于生長超導薄膜、鐵電材料、熱電材料、壓電材料以及復雜氧化物的多層膜和異質膜。系統可實現對化學成分較復雜的復合物材料進行材料生長，同時生長過程中可引入活性或惰性及混合氣等工藝氣體，以提高薄膜生長品質。
PLD 300 | 模塊描述 | 配置參數 | |
生長室 | 腔體 | 腔體材料 | SS316 |
腔體尺寸 | 300mm I.D. | ||
烘烤溫度 | Max.200℃ | ||
本底真空 | < 5×10-10mbar | ||
抽氣系統 | 450L/s分子泵+10L/s機械泵 | ||
真空測量系統 | 全量程規+電容薄膜規 | ||
離子泵/TSP/NEG | 選配 | ||
樣品架 | 樣品尺寸 | 2 inch | |
襯底加熱方式 | 輻射加熱/激光加熱 | ||
襯底加熱器最高溫度 | 1200℃ | ||
襯底最大旋轉速度 | 30RPM | ||
靶臺 | 靶材尺寸 | 6×1 inch或3×2 inch | |
旋轉方式 | 公轉+自轉 | ||
獨立的靶臺擋板 | 氣動驅動 | ||
質量流量計 | 三路/200sccm | ||
部件 | QCM | 標配 | |
差分RHEED | 15KeV-30KeV | ||
Ion Source | 選配 | ||
RGA | 選配 | ||
快速進樣室 | 腔體 | 腔體材料 | SS316 |
烘烤溫度 | 120℃ | ||
本底真空 | < 5×10-8mbar | ||
抽氣系統 | 80L/s分子泵+10L/s機械泵 | ||
真空測量系統 | 全量程規 | ||
部件 | 樣品停放臺 | 3工位 | |
傳樣桿 | CF35/600mm | ||
軟硬件集成 | GUIDE軟件 | 標配 | |
烘烤系統 | 標配 | ||
系統支架 | 標配 | ||
真空照明系統 | 標配 | ||
激光器 | 進口/國產選配 | ||
KSA圖像分析系統 | 選配 | ||
Kaufman離子源 | 選配 | ||
紅外測溫儀 | 選配 | ||
泵車 | 選配 | ||
等離子清洗 | 選配 | ||
CCD相機 | 選配 | ||
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