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MBE-400 分子束外延系統

MBE-400 主要采用氬弧焊加工的圓柱形316不銹鋼腔體,腔體頂部法蘭尺寸為DN350CF,最多能安裝10個蒸發源。預留多種法蘭口,安裝法蘭兼容RGA、RHEED、BFM等多種原位測量,束流擋板瞬時可控,實現2inch高質量薄膜生長。

產品特點
● 蒸發源差分設計,允許在高氧或臭氧分壓下沉積氧化物材料● 無需破壞生長腔真空,實現蒸發源的填料和替換● 可選用高純臭氧發生系統或者射頻等離子源作為氧源


技術參數
MBE 400模塊描述配置參數
生長室
腔體
腔體材料SS316
腔體尺寸300mm I.D
烘烤溫度Max.200℃
本底真空< 5×10-10 mbar
抽氣系統700L/s分子泵+10m3/h機械泵
真空測量系統離子規+Pirani規
液氮冷屏選配
離子泵選配
低溫泵選配
樣品架樣品最大尺寸2 inch
襯底加熱方式輻射加熱
襯底加熱器溫度室溫-1200K
電子束加熱選配
襯底加熱方式選配
液氮制冷模塊選配
部件蒸發源配置6xDN40CF, 2xDN63CF
獨立的蒸發源擋板氣動驅動
QCM標配
RHEED15KeV-30KeV
Ion Source選配
RGA選配

快速進樣室
腔體腔體材料SS316
烘烤溫度Max.200℃
本底真空<5×10-8 mbar
抽氣系統80L/s分子泵+10m3/h機械泵
真空測量系統全量程規
部件樣品停放臺3工位
系統集成及控制GUIDE軟件標配
烘烤系統標配
系統支架標配
真空照明系統選配
等離子清洗選配
CCD相機選配



標簽: 超高真空MBE
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